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UV光催化廢氣凈化設(shè)備
更新時間:2024-06-30
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UV光催化廢氣凈化設(shè)備利用排風設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出室外。吸附在光敏半導體表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生電子或空穴,從而發(fā)生一系列的氧化還原反應(yīng),使污染物降解為二氧化碳和水等物質(zhì)。
品牌眾鑫興業(yè)加工定制
電壓220v啟燃溫度10℃
凈化率98%%重量1050kg

UV光催化廢氣凈化設(shè)備安全可靠,適應(yīng)性強;因采用光解原理,模塊采用隔爆處理,消除了有機廢氣易爆安全隱患,防火、防爆、防腐性能好(全不銹鋼結(jié)構(gòu)304),性能安全穩(wěn)定,通過合理的模塊配置,可廣泛應(yīng)用于各類廢氣、惡臭氣體凈化處理。無運動噪音,可每天24小時連續(xù)工作。除定期檢查維護外,無需專人管理和操作,維護和能耗成本低,凈化處理效果優(yōu)于國家標準。

廢氣治理設(shè)備適合處理高濃度、氣量大、分子結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性強的有毒有害氣體;有效凈化*;氧化性強;高效節(jié)能;氧化性強;廣譜性;使用壽命長。

 UV光催化廢氣凈化設(shè)備通過具有一定能量的光照射,光敏半導體材料即被光激發(fā)出電子-空穴對,吸附在光敏半導體表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生電子或空穴,從而發(fā)生一系列的氧化還原反應(yīng),使污染物降解為二氧化碳和水等物質(zhì)。未*裂解的小分子有機物及臭氧分子進入活性炭反應(yīng)階段,氣固相開始接觸,有機分子與臭氧在活性炭的細孔中繼續(xù)氧化反應(yīng),達到*降解的目的,(在外加電場的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生大量攜能電子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)一系列復(fù)雜的物理、化學反應(yīng),使復(fù)雜的大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì),從而使污染物降解為二氧化碳和水等物質(zhì)。)

本產(chǎn)品利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進而生成臭氧; 

UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合,生成新的、無害或低害物質(zhì),如CO2、H2O等。同時在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料,結(jié)合一定量的光輻射,使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對,吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用,產(chǎn)生·HO等氧化性*的自由基,再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部氧化。

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